Innovalia Metrology presenta M3 Analytics en BIEMH 2018

Innovalia Metrology durante su presencia en la BIEMH (28 mayo – 1 junio) pondrá a disposición de todos los visitantes su tecnología M3 gracias a la cual la empresa vasca ha desarrollado distintos productos que permiten optimizar los procesos de medición y de producción. Innovalia Metrology presentará aplicaciones directas de su tecnología M3 en distintos procesos, representando de esta manera la completa integración de M3 en un único flujo de trabajo.

M3 Analytics es una de las últimas apuestas de Innovalia Metrology orientada a mejorar el proceso productivo. M3 Analytics analiza y mejorar las capacidades de la producción en función de las mediciones de las piezas proporcionando un gran beneficio para el usuario ya que optimiza la producción de una forma sencilla y completa. Mediante datos precisos sobre la calidad de las piezas y estadísticas que se vuelcan en informes personalizados, contribuye significativamente al conocimiento del proceso productivo y permite resolver errores en la producción y anticipar errores futuros. Se trata de un software universal que incorpora datos de otros paquetes de medición y personaliza-ble ya que permite visualizar toda la información recogida en un proceso, configurando y analizando los parámetros que más interesan. Además, reúne todo lo que el usuario necesita siendo a su vez práctico y presentando los resultados concretos en relación a la pieza permitiendo controlar la calidad de producción en un solo vistazo.

Durante la presentación de M3 Analytics, el equipo de Innovalia Metrology invitará a los interesados a presenciar en directo una demo en tiempo real no sólo de M3 Analytics, si no de su tecnología M3 al completo. Además de proponer distintas actividades y sorteos, Innovalia Metrology invita a los asistentes de la BIEMH a asistir a la presentación oficial de M3 Analytics para descubrir más sobre la tecnología que está posicionando al grupo vasco, Innovalia, como referente a nivel europeo en Metrología Inteligente.